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【文/有數(shù)DataVision】

作為日本老牌電子巨頭，佳能相機(jī)做得好，但光刻機(jī)做得也不差。

就在今年年初，佳能關(guān)閉了運(yùn)營(yíng)32年的珠海工廠。盡管，巔峰時(shí)期，這里曾一度占了佳能全球卡片數(shù)碼相機(jī)的一半產(chǎn)量。

到了下半年，不斷收縮中的佳能，卻大手一揮表示要投資500億日元（約25億人民幣），新建半導(dǎo)體設(shè)備工廠。以2021年數(shù)據(jù)來(lái)看，佳能光刻機(jī)均價(jià)約為：

7857萬(wàn)。

更具體來(lái)說(shuō)，去年總計(jì)銷(xiāo)售140臺(tái)光刻機(jī)的佳能，想要將其產(chǎn)能提高兩倍，同時(shí)，佳能還要研制一種名叫NIL的低成本高端設(shè)備，試圖在全球高端光刻機(jī)領(lǐng)域分一杯羹。

畢竟一臺(tái)最最基礎(chǔ)的EUV光刻機(jī)就要超過(guò)1億元，還是美刀。

故事似乎有些反常？

目前，全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)都處于周期底部，就連長(zhǎng)期供不應(yīng)求的臺(tái)積電，也準(zhǔn)備于今年關(guān)閉4臺(tái)EUV光刻機(jī)，鼓勵(lì)員工多休息。對(duì)于擴(kuò)產(chǎn)、購(gòu)買(mǎi)光刻機(jī)的意愿更是一降再降。

那么問(wèn)題來(lái)了，晶圓廠們都不愿擴(kuò)產(chǎn)了，佳能為何在此時(shí)增加光刻機(jī)產(chǎn)能？

01.佳能擴(kuò)產(chǎn)，意在中國(guó)

項(xiàng)莊舞劍，意在沛公；佳能擴(kuò)產(chǎn)，意在中國(guó)。

這么說(shuō)，原因主要有二：

第一，雖然全球產(chǎn)能過(guò)剩，但中國(guó)芯片仍在擴(kuò)張，需要光刻機(jī)。

首先來(lái)看看中國(guó)芯片企業(yè)的數(shù)量。

企查查搜索芯片，一年內(nèi)成立的企業(yè)有63017家；成立1-2年的企業(yè)有45511家；成立2-3年的有20678家。盡管中國(guó)芯片產(chǎn)業(yè)沒(méi)有按照摩爾定律發(fā)展，但是企業(yè)數(shù)量卻按照摩爾定律在穩(wěn)步推進(jìn)。企業(yè)多了，實(shí)力不一定成正比增加，但對(duì)光刻機(jī)的需求，一定會(huì)暴漲。

其次看看企業(yè)愿意付出的代價(jià)。

在2021年史無(wú)前例大缺芯中，一臺(tái)三十年前佳能的二手光刻機(jī)身價(jià)暴漲17倍，2014年售價(jià)不到10萬(wàn)美元，卻足足被炒作賣(mài)到了170萬(wàn)美元。盡管這臺(tái)光刻機(jī)僅適用于4至8英寸的晶圓，只能用于350nm的技術(shù)。

第二，中國(guó)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)的自主化還有一段距離。

目前，要生產(chǎn)7nm以下先進(jìn)芯片制程，極紫外線(xiàn)光刻機(jī)（EUV）是必選項(xiàng)。但全球范圍內(nèi)，僅阿斯麥一家具備EUV光刻機(jī)的生產(chǎn)能力。

那我們距離EUV的距離有多遠(yuǎn)呢？

目前國(guó)內(nèi)最先進(jìn)的光刻機(jī)來(lái)自上海微電子，其最先進(jìn)的光刻機(jī)是一款代號(hào)SSA600/20的DUV設(shè)備，只能用于90nm芯片的生產(chǎn)。而90nm，是臺(tái)積電2000年前后就已經(jīng)量產(chǎn)的芯片制程。

因此，擴(kuò)產(chǎn)中的中國(guó)芯片事業(yè)，迫切需要補(bǔ)上光刻機(jī)的短板。

02.為什么是佳能？

全球范圍內(nèi)，能做光刻機(jī)的企業(yè)不少，為什么是佳能？

最直接的原因是，佳能更容易繞過(guò)長(zhǎng)臂管轄。

當(dāng)前，全球的光刻機(jī)主要可以分為兩類(lèi)，EUV與DUV。簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)，EUV主要用于7nm及更先進(jìn)的制程，在這個(gè)市場(chǎng)中，來(lái)自荷蘭的阿斯麥一家獨(dú)大。而在14nm以及更成熟的制程中，則主要使用的是DUV設(shè)備，這一市場(chǎng)則由阿斯麥以及來(lái)自日本的佳能、尼康三分天下。

由于歷史的原因，在光刻機(jī)的生產(chǎn)中，阿斯麥采用全球分工，尤其是光刻機(jī)的核心零部件光源主要來(lái)自美國(guó)，因此會(huì)受到更多的美國(guó)長(zhǎng)臂管轄，而日本企業(yè)更多采用垂直一體化的生產(chǎn)模式，相對(duì)來(lái)說(shuō)受限較小。

一邊是山高皇帝遠(yuǎn)的美國(guó)管轄，一邊是不斷增長(zhǎng)的中國(guó)市場(chǎng)，孰輕孰重，佳能自然早有結(jié)論。

政治原因之外，于佳能而言，借助中國(guó)市場(chǎng)，實(shí)現(xiàn)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)的“彎道超車(chē)”，則是另一重它的隱秘“芯事”。

根據(jù)爆料，佳能計(jì)劃開(kāi)發(fā)的該新一代設(shè)備很可能就是2021年成功研發(fā)的納米壓印光刻（NIL）的升級(jí)版。

所謂NIL技術(shù)，是將三維結(jié)構(gòu)的掩膜壓在晶圓的感光材料上，同時(shí)照射光線(xiàn)完成一次性轉(zhuǎn)印，被稱(chēng)為是最有前景的光刻技術(shù)之一。

相比EUV，NIL主要有兩大優(yōu)勢(shì)。

第一，NIL更省錢(qián)。眾所周知，EUV設(shè)備就是一臺(tái)吞金獸，光購(gòu)買(mǎi)價(jià)款就超過(guò)了一臺(tái)波音客機(jī)，還有一年超一千萬(wàn)度的耗電量。而NIL不僅設(shè)備投資僅有EUV的40%，耗電量更是僅有10%。

第二，技術(shù)更加獨(dú)立自主。傳統(tǒng)光刻機(jī)市場(chǎng)中，DUV自主并不罕見(jiàn)，但到了EUV階段，則需要來(lái)自美國(guó)的光源、德國(guó)的鏡片、英國(guó)的真空腔，舉全球之力完成。但是對(duì)NIL技術(shù)來(lái)說(shuō)，主要技術(shù)以及零件來(lái)源是日本的佳能、鎧俠以及大日本印刷株式會(huì)社（DNP），并早在2017年就開(kāi)始在日本三重縣四日市的鎧俠工廠內(nèi)研發(fā)NIL量產(chǎn)。因此技術(shù)上并不受美國(guó)的長(zhǎng)臂管轄。

當(dāng)然，這些目前也僅僅只是佳能的官方宣傳，而且主要被用在存儲(chǔ)芯片的生產(chǎn)。