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我國科學家另辟蹊徑造出9納米光刻試驗樣機
關鍵字:據科技日報15日報道，從武漢光電國家研究中心獲悉，該中心甘棕松團隊采用二束激光在自研的光刻膠上突破了光束衍射極限的限制，采用遠場光學的辦法，光刻出最小9納米線寬的線段，實現(xiàn)了從超分辨成像到超衍射極限光刻制造的重大創(chuàng)新。光刻機是集成電路生產制造過程中的關鍵設備，主流深紫外（DUV）和極紫外（EUV）光刻機主要由荷蘭ASML公司壟斷生產，屬于國內集成電路制造業(yè)的“卡脖子”技術。
- 原標題：我國科學家另辟蹊徑造出9納米光刻試驗樣機
- 責任編輯:李丕
- 最后更新: 2019-04-16 06:48:32
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