成人免费午夜在线观看,伊人久久精品,一区二区三区精品

今年3月初，阿斯麥曾與中國大陸最大的晶圓代工廠——中芯國際延長一年的采購協(xié)議， 后者采購的產(chǎn)品為深紫外光刻機（DUV），但這種光刻機最多只能用于7nm工藝的生產(chǎn)。

至于最先進的EUV光刻機，荷蘭政府一直美國的壓力下未向阿斯麥批準出口許可。溫彼得也拒絕提供申請EUV出口許可的細節(jié)，僅表示“不同政府的不同代表正在進行深入的討論。我們拭目以待”。

4月14日，溫彼得曾與其合作伙伴在德國漢諾威工業(yè)博覽會的一場線上論壇上警告稱，如果外部供應(yīng)完全中斷，將促使中國完全自主掌控供應(yīng)鏈，隨后非中國企業(yè)將被排除出中國這個最大的芯片市場之外。對于非中國芯片制造商來說，失去銷售市場將是一個重大打擊。他補充稱，隨著營收減少，創(chuàng)新將面臨停止，因為每一歐元銷售收入將為研發(fā)貢獻20至30歐分，沒有人會從戰(zhàn)略出口限制中受益。

但美媒《政客》報道認為，美國出口管制目前并沒有阻礙阿斯麥的蓬勃發(fā)展，因為中國臺灣臺積電和韓國三星兩大全球芯片制造商也一直在尋求擴大產(chǎn)能。在美國“制造業(yè)回流”政策拉攏下，臺積電、英特爾和三星在過去幾個月中均宣布了在美國建廠的計劃。由于半導(dǎo)體設(shè)備的需求不斷增加，阿斯麥預(yù)計2021年營收將同比增長30%，該公司美股股價近期連創(chuàng)新高，較去年3月低點漲幅超過200%。

阿斯麥股價走勢

“危機意識越強，各國就越想掌握自主可控的技術(shù)；全球半導(dǎo)體行業(yè)的脫鉤程度越高，阿斯麥賣出的光刻機就越多?！薄墩汀穲蟮乐赋觯沁@種悖論推動了阿斯麥總部所在地費爾德霍芬的經(jīng)濟發(fā)展。

但溫彼得認為，從長遠來看，這將變得十分麻煩?！爸灰酒€在賣……我們會交付機器，”這位首席執(zhí)行官說，“目前唯一懸而未決的問題是：‘在哪里?’”

觀察者網(wǎng)注意到，阿斯麥在每年的年報中，幾乎都會提及中國臺灣和韓國面臨的政治風(fēng)險，而這兩個地區(qū)是該公司最大的出貨地。

例如，阿斯麥在2020年年報中寫道：

我們的一些制造工廠和客戶都位于臺灣地區(qū)。臺灣地區(qū)客戶占我們2020年凈銷售額的33.8%，2019年凈銷售額的45.3%。臺灣地區(qū)在國際政治中具有獨特的地位。中華人民共和國主張對臺灣擁有主權(quán)，不承認臺灣當(dāng)局的合法性。臺灣地區(qū)與中華人民共和國關(guān)系的變化、臺灣當(dāng)局的政策，以及影響臺灣政治、經(jīng)濟或社會環(huán)境的其他因素，都可能對我們的業(yè)務(wù)、財務(wù)狀況和經(jīng)營結(jié)果產(chǎn)生重大不利影響。

此外，我們的一些設(shè)施和客戶位于韓國。韓國客戶占我們2020年凈銷售額的29.7%，占我們2019年凈銷售額的18.6%。自第二次世界大戰(zhàn)后朝鮮半島分裂以來，韓國與朝鮮的關(guān)系一直很緊張。這些國家之間的關(guān)系惡化或朝鮮半島爆發(fā)戰(zhàn)爭可能對我們的商業(yè)、財務(wù)狀況或業(yè)務(wù)結(jié)果產(chǎn)生重大不利影響。

阿斯麥2020年財報截圖

資深半導(dǎo)體行業(yè)人士向觀察者網(wǎng)分析指出，2020年中國臺灣和韓國兩個地區(qū)占阿斯麥出貨的比例分別為36%和31%，二者占比合計接近70%。兩大出貨地面臨的地緣政治風(fēng)險，或許也是阿斯麥希望美國能放開出口管制的原因之一。他接著補充道，中國大陸在光刻機領(lǐng)域與阿斯麥仍有較大差距，上海微電子90nm制程DUV光刻機仍未大規(guī)模商用，但相信在國家戰(zhàn)略的支持下，中國大陸的光刻機定會取得突破。

2020年6月，方正證券在一份研報中提到：“在02專項光刻機項目二期中，設(shè)定的時間為2020年12月驗收193nmArF浸沒式DUV光刻機，其制程工藝為28納米，對標產(chǎn)品為ASML現(xiàn)階段最強DUV光刻機：TWINSCAN NXT:2000i。以NXT:2000i為例，各子系統(tǒng)拆分如下：上海微電子負責(zé)光刻機設(shè)計和總體集成，北京科益虹源提供光源系統(tǒng)，北京國望光學(xué)提供物鏡系統(tǒng)，國科精密提供曝光光學(xué)系統(tǒng)，華卓精科提供雙工作臺，浙江啟爾機電提供浸沒系統(tǒng)?！?

但該行業(yè)人士也提醒稱，驗收并不意味著成熟，只有大規(guī)模商用才能帶來收益。

CINNO Research分析師向觀察者網(wǎng)表示，目前了解到的信息是，光刻機研發(fā)難點中對進度影響最大的部分是光源和物鏡，分別來自北京的科益虹源和國望光學(xué)。其中又以物鏡為最難，與德、日還有多年技術(shù)經(jīng)驗積累差距，短時間內(nèi)趕上相當(dāng)不易。此外，為提高子系統(tǒng)和零部件自主化程度，反制美方“卡脖子”，整個系統(tǒng)還需要更多時間來完善。

方正證券2020年6月研報截圖