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兩年后用1.8nm制程反超臺(tái)積電、三星,英特爾能做到嗎?
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呂棟lvdong@guancha.cn
最后更新: 2024-05-08 19:13:32【文/觀察者網(wǎng) 呂棟】
近些年,美國半導(dǎo)體巨頭英特爾在先進(jìn)制程上的延誤,不僅給了臺(tái)積電、三星在芯片制造上領(lǐng)先的機(jī)會(huì),也使得自家CPU等產(chǎn)品受到拖累,導(dǎo)致市場(chǎng)份額被AMD蠶食、股價(jià)受挫。要想重現(xiàn)往日輝煌,這家堅(jiān)持IDM模式(垂直整合制造)的老牌巨頭,首先還是要在制程上實(shí)現(xiàn)反超。
近日在2023英特爾中國戰(zhàn)略媒體溝通會(huì)上,英特爾研究院副總裁、英特爾中國研究院院長宋繼強(qiáng)告訴觀察者網(wǎng),英特爾正通過“四年五個(gè)節(jié)點(diǎn)”的計(jì)劃,加速推動(dòng)摩爾定律。
“相信到2025年,英特爾能通過Intel 18A(1.8nm)節(jié)點(diǎn),重新拿回制程、晶體管制造方面的領(lǐng)先地位,英特爾的愿景是到2030年可以在一個(gè)封裝內(nèi)集成1萬億個(gè)晶體管?!?
宋繼強(qiáng)透露,英特爾所說的“五個(gè)節(jié)點(diǎn)”分別是Intel 7、Intel4、Intel 3和Intel 20A、Intel 18A。在Intel 7(原10nm制程)上,英特爾使用的還是DUV(深紫外)光刻機(jī),從Intel 4(原7nm制程)開始使用EUV(極紫外)光刻機(jī),Intel 3將全面使用EUV光刻機(jī)。
英特爾制程路線圖
“到Intel 20A又會(huì)有很大突破,這個(gè)突破源自于幾樣非常先進(jìn)的設(shè)備。”宋繼強(qiáng)表示,英特爾到Intel 20A會(huì)開始采用高數(shù)值孔徑(High NA)的EUV,這種光刻機(jī)可以去刻畫更細(xì)的特征尺寸,分辨率更高,可以減少工藝流程的復(fù)雜度,降低缺陷,制造更高性能的晶體管。
觀察者網(wǎng)之前報(bào)道過,早在2018年,英特爾就率先向荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥下單第一代高數(shù)值孔徑(0.55 NA)EUV光刻機(jī),該公司也有望成為首個(gè)0.55 NA EUV光刻機(jī)的使用者。這種光刻機(jī)每臺(tái)售價(jià)約為3億美元(約合人民幣19億元),比0.33 NA光刻機(jī)的售價(jià)高出一倍。
在同一場(chǎng)溝通會(huì)上,英特爾中國區(qū)董事長王銳向觀察者網(wǎng)透露,Intel 7已經(jīng)批量生產(chǎn),Intel 4今年下半年就會(huì)進(jìn)入市場(chǎng),Intel 3的進(jìn)度也非常好。接下來是Intel 20A、Intel 18A,20A是2nm,18A就是1.8nm,測(cè)試芯片現(xiàn)在已經(jīng)流片,所以英特爾堅(jiān)信到2025年能“重回領(lǐng)先地位”。
據(jù)宋繼強(qiáng)介紹,在晶體管結(jié)構(gòu)層面,英特爾在Intel 20A中會(huì)應(yīng)用RibbonFET,之前的Intel 7、Intel 4、Intel 3全都是FinFET鰭式晶體管,而RibbonFET是GAA全環(huán)繞柵極晶體管的一種實(shí)現(xiàn)。同時(shí),在Intel 20A,英特爾還將首次在晶體管結(jié)構(gòu)里采用背部供電結(jié)構(gòu),這可以讓邏輯層和供電層分開,否則繞線會(huì)很復(fù)雜,因此背部供電能在繞線方面節(jié)約大量成本。
目前,英特爾在先進(jìn)制程上最大的競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手無疑是臺(tái)積電和三星,這兩大巨頭已在2022年相繼量產(chǎn)3nm。盡管外界不斷質(zhì)疑臺(tái)積電、三星在制程命名上玩文字游戲,甚至三星的3nm制程晶體管密度還不如英特爾7nm制程,但王銳等高管也坦承,英特爾在制程上確實(shí)落后了。
臺(tái)積電、三星、英特爾等廠商不同制程節(jié)點(diǎn)的晶體管密度對(duì)比 圖源:DigiTimes
激烈競(jìng)爭(zhēng)之下,臺(tái)積電和三星已相繼官宣2025年將量產(chǎn)2nm制程,英特爾要想在2年后完成制程上的超越,就必須在2025年實(shí)現(xiàn)Intel 18A量產(chǎn),但這談何容易?
雖然英特爾坐擁世界上最先進(jìn)的光刻機(jī),但宋繼強(qiáng)也坦言,到“埃米時(shí)代”(2nm之后),晶體管微縮難度會(huì)越來越大,需要尋找新的思路來繼續(xù)增加單位面積上的晶體管密度。
在英偉達(dá)CEO黃仁勛喊出“摩爾定律已死”后,英特爾CEO基辛格依然倔強(qiáng)地認(rèn)為,“摩爾定律沒有死,它還活得好好的”。目前,英特爾單個(gè)芯片最多封裝1200-1300億個(gè)晶體管,距離2030年實(shí)現(xiàn)1萬億的目標(biāo)還有8倍,時(shí)間還有8年,如果按照這個(gè)節(jié)奏走,仍然符合摩爾定律的發(fā)展趨勢(shì)。
但問題是,英特爾將通過什么方式將摩爾定律延續(xù)下去?
雖然硬件是英特爾的傳統(tǒng)強(qiáng)項(xiàng),但這家芯片巨頭近些年在軟件方面的投入也持續(xù)引發(fā)關(guān)注。在重回英特爾擔(dān)任CEO之前,基辛格曾在美國軟件公司VMware擔(dān)任CEO八年之久。目前,英特爾有1.9萬名軟件工程師,過去幾年該公司還加入了中國主導(dǎo)的歐拉和龍蜥等開源社區(qū)。
在本次媒體溝通會(huì)上,英特爾副總裁兼軟件生態(tài)部總經(jīng)理李映宣布,英特爾中國開源技術(shù)委員會(huì)正式成立。他提到,希望通過新成立的平臺(tái),一方面在內(nèi)部整合資源,把英特爾全球的創(chuàng)新跟中國本土創(chuàng)新結(jié)合起來,另外是打造開放生態(tài),和伙伴一起共同推動(dòng)開源以及生態(tài)的發(fā)展。
李映向觀察者網(wǎng)坦言,前幾年可以說中國在開源領(lǐng)域只索取不付出,但放在今天,這種觀察已經(jīng)有點(diǎn)過時(shí)。以Linux來講,可以看到中國開發(fā)者的貢獻(xiàn)在大幅度提高。第二,在整個(gè)開源社區(qū)的推廣、運(yùn)營,以及各個(gè)方面的活動(dòng)中,中國投入都是非常巨大的,中國公司或者是中國開發(fā)者主導(dǎo)的項(xiàng)目也越來越多。
會(huì)后,宋繼強(qiáng)和李映也接受了觀察者網(wǎng)對(duì)話,解答了英特爾在硬件層面如何進(jìn)一步推動(dòng)摩爾定律發(fā)展,在實(shí)現(xiàn)萬億晶體管過程中,還有哪些技術(shù)難點(diǎn)有待突破?以及在軟件層面,英特爾如何與中國主導(dǎo)的開源社區(qū)進(jìn)一步合作,怎么看待中國在開源領(lǐng)域近些年的發(fā)展等?
以下是部分對(duì)話實(shí)錄:
- 責(zé)任編輯: 呂棟 
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